Intel и Samsung лишили TSMC суперсовременных 1,4-нм литографов ASML

Компания TSMC, крупнейший в мире вендор микросхем с долей рынка более 50% и гигантскими клиентами в лице AMD, Qualcomm, Apple, Nvidia и многих других, рискует оказаться одной из последних, кто перейдет на новый техпроцесс 1,4 нм. Как пишет издание Nikkei, в этом плане ее могут обойти сразу три компании, одна из которых – это очевидный аутсайдер в плане освоения новых топологий.

Речь о компании Intel, которая с 2019 г. застряла на техпроцессе 10 нм, но при этом пытается доказать всему миру, что способа делать 1,8-нанометровые чипы. Процент брака, правда, зашкаливающий, и клиенты отменяют заказы.

Две другие компании – южнокорейские это SK Hynix и Samsung. Вторая постоянно конкурирует с тайваньской TSMC в плане темпов освоения техпроцессов, но у нее, как и у Intel, тоже проблемы с большим количеством брака. TSMC перешла на самый современный по нынешним меркам техпроцесс 2 нм в конце 2025 г., почти одновременно с Samsung.

Единственная в мире компания, способная поставлять литографы под топологию 1,4 нм – это голландская ASML, доля глобального рынка которой – около 90%. Nikkei со ссылкой на генерального директора ASML Кристофа Фуке (Christophe Fouquet ) пишет, что именно Intel, Samsung и SK Hynix, а не TSMC, станут первыми, кто внедрит эту технологию.

По прогнозам Фуке, массовое производство 1,4-нанометровых микросхем с использованием новых литографических машин ASML под названием Twinscan EXE:5200B начнется в 2027-2028 гг, пока без более точной даты. По словам Фуке, новые машины обладают более высокой числовой апертурой (numerical aperture, NA), которая повысилась с нынешних 0,33 до 0,55 (High-NA). В то время как NA 0,33 позволяет получать оттиски размером 13 нм за один проход, NA 0,55 открывает доступ к 8 нм. Это делает литографы подходящими для массового производства логических микросхем поколения 1,4 нм и DRAM-памяти от 10 нм и тоньше.

Что примечательно, первой компанией, кто внедрил литографы Twinscan EXE:5200B, оказалась Intel, которая с весны 2025 г. ведет разработку техпроцесса 14А. Предположительно, он окажется именно 1,4-нанометровым.

Интересен этот факт именно тем, что Intel за последние 11 лет ни разу не была первой в плане внедрения самых передовых технологий производства микросхем. Сначала в 2019 г. ее экс-гендиректор Роберт Свон (Robert Swan) наотрез отказался оставить в прошлом морально устаревший на тот момент техпроцесс 14 нм, затем Intel обогнали почти все другие чипмейкеры из числа крупнейших. У AMD, ее главного конкурента на рынке х86-процессоров, давно есть 4-нанометровые решения – их для нее выпускает TSMC.

Intel объявила о развертывании системы ASML Twinscan EXE:5200B в декабре 2025 г. Как сообщили в компании, оборудование успешно прошло приемочные испытания.

Как отмечает портал Tom’s Hardware, для эффективного использования новой системы литографии Intel одновременно разрабатывает маски, процессы травления, методы повышения разрешения и метрологические решения. Все эти процессы должны быть оптимизированы совместно, чтобы в полной мере использовать потенциал высокоапертурного EUV-литографического формирования рисунка.

Компания Samsung, по-видимому, не желает сильно отставать от Intel по темпам освоения техпроцесса 1,4 нм. Издание Korea Economic Daily сообщило, что Samsung движется примерно в том же направлении, получив свой первый высокоапертурный EUV-сканер Twinscan EXE:5200B в последних числах 2025 г.

Второй такой же литограф Samsung получит в течение первой половины 2026 г., то есть до 30 июня. По информации издания, южнокорейский техногигант планирует использовать эти машины на своих 2-нанометровых линиях. Это позволит задействовать их для выпуска анонсированного в конце 2025 г. мобильного процессора Exynos 2600, который будет использоваться в топовых смартфонах и планшетах компании.

Также Samsung является контрактным производителем микросхем – она выпускает их для сторонних компаний. В числе ее клиентов – компания Tesla, производитель электромобилей. Сейчас она ведет разработку нового чипа для искусственного интеллекта и собирается делегировать задачу по его производству именно Samsung. Его тоже будут производить с использованием нового литографа.

SK Hynix, производитель модулей памяти, опробовала Twinscan EXE:5200B на несколько месяцев раньше Samsung. Она интегрировала этот литограф в свою производственную линию в сентябре 2025 г. и готовится к массовому его использованию.

Получить доступ к топологиям тоньше 2 нм желают и японские чипмейкеры. Как пишет Nikkei, компания Rapidus в своем стремлении сократить отставание от лидеров в области литейного производства рассматривается как сильный кандидат на внедрение литографии следующего поколения.

При поддержке властей страны рядом с заводом Rapidus в японском городе Титосэ откроется современный научно-исследовательский центр полупроводниковой промышленности. Как сообщает Nikkei, центр, открытие которого запланировано на 2030 финансовый год, будет сосредоточен на разработке материалов и процессов следующего поколения с использованием оборудования EUV с высокой числовой апертурой.

Что касается плана развития передовых технологических процессов Rapidus компания планирует начать строительство второго предприятия по выпуску микросхем в 2027 финансовом году, а к 2029 г. выйти на производство 1,4-нм чипов. При этом ее нынешний завод в Титосэ на 2 нм пока не перешел.

По информации агентства Kyodo News, Rapidus планирует запустить массовое производство 2 нм микросхем во второй половине 2027 финансового года, начиная примерно с 6 тыс. пластин в месяц. Она хочет быстро увеличить объем производства в четыре раза, до примерно 25 тыс. пластин в месяц, к следующему финансовому году.

TSMC не уточняет, почему пока не спешит закупать Twinscan EXE:5200B у ASML. По данным Forbes, Этот литограф – самый технически сложный и оттого самый дорогой из когда-либо созданных, притом не только в ассортименте ASML, а в принципе в истории Стоимость одной такой системы достигает $380 млн.

Издание Nikkei пишет, что пока нет гарантии, что Twinscan EXE:5200B обойдет литографы с чистовой апертурой 0,33 по производительности. По информации издания, именно на фоне дороговизны Twinscan EXE:5200B и неясных перспектив относительно его производительности TSMC решила пока не переходить на него. Сама TSMC это не подтверждает, но и не отрицает.

Сообщение Intel и Samsung лишили TSMC суперсовременных 1,4-нм литографов ASML появились сначала на Время электроники.