Шагнули даже дальше западных конкурентов – российские инженеры представят первый в мире рентгеновский литограф для 28 нм топологии
Отечественные ученые приняли решение не просто разработать и собрать аналог западных литографов, а разработали свою существенно более лучшую версию.
Это говорит о высочайшем потенциале наших разработок и высоких компетенциях ученых в принципе
Свой, новый и лучший
Больше подробностей о российском литографе удалось узнать на прошедшем с 11 по 15 марта в Нижнем Новгороде XXVIII Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника». На этом мероприятии собрались более 600 ученых наших ведущих лабораторий.
И вот доктор физико-математических наук, заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Н. И. Чхало в своем докладе под названием «Дорожная карта развития высокопроизводительной рентгеновской литографии в России» рассказал очень любопытное и интересное.
Оказывается, наши ученые отказались от использования вполне привычной и хорошо изученной длины волны в 13,5 нм и решили сделать свой рентгеновский литограф с уникальной длиной волны в 11,24 нм.
В создании нашего литографа будут участвовать сразу несколько крупнейших учреждений Росатома и институтов. И на первом этапе литограф будет ориентирован на топологические нормы 28 нм, а уже на следующих этапах модернизирован на 10 нм и меньше.
Сам по себе проект механизма был составлен еще в 2022 году, и надо признать, развитие идет просто семимильными шагами.
Так, первый работающий образец должен появиться уже в 2026-2027 годах. И пока инженеры укладываются в график. А образцы массового производства должны появиться в 2028-2031 годах.
В том, что наши инженеры справятся с задачей, сомневаться не приходится. Ведь без ложной скромности можно сказать, что наши инженеры стояли у стоков этой технологии вместе со специалистами компании ASML. Долгое время ученые работали в тандеме, и имеют богатый опыт и необходимые компетенции.
Ну а теперь российские специалисты работают самостоятельно и уверенно движутся к успеху.