В ОЭЗ Москвы создали первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нанометров
Компания «ЗНТЦ» из особой экономической зоны «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф для производства микросхем с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.
Всего в мире меньше 10 стран способно создавать такое ключевое оборудование для производства микросхем.
«Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — рассказал Собянин.
Он уточнил, что российский фотолитограф значительно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения в нем использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный с высокой долговечностью и более узким спектром.
Уже появился заказчик на первый фотолитограф. Сейчас проводится адаптация техпроцессов к особенностям производства конечного потребителя.
Кроме того, сейчас разрабатывают фотолитограф с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.
«Наша компания завершила работы по созданию первой российской установки для проекционной литографии с топологией 350 нанометров в соответствии с госконтрактом. Проект реализован в партнерстве с белорусским заводом „Планар“. В декабре 2024 после успешных испытаний оборудование было принято госкомиссией, которая документально подтвердила все заявленные технические характеристики», — отметил генеральный директор компании «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев.
Ранее в департаменте инвестиционной и промышленной политики Москвы отметили, что город уделяет особое внимание развитию микроэлектронной отрасли. Так с 2022 года на площадке «Алабушево» ОЭЗ «Технополис Москва» работает кластер микроэлектроники и фотоники, в который входит свыше 60 компаний. Для дальнейшего устойчивого развития отрасли создают, обновляют и развивают инфраструктуру производства микроэлектроники полного цикла.