В России хотят создать литограф для выпуска 7-нм чипов
В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) в Нижнем Новгороде ведется разработка первой российской установки литографии для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража. Об этом сообщается на сайте «Стратегия развития нижегородской области». На данный момент учеными РАН создан первый демонстрационный образец оборудования. На этой установке получены отдельные изображения на подложках с разрешением до предельных 7...
Читать дальше...