Наступает эра российской микроэлектроники: есть возможность обойти лидеров?
В Институте прикладной физики Российской Академии Наук (ИПФ РАН) в Нижнем Новгороде ведётся разработка литографической установки. В 2011 году был построен образец-демонстратор литографа с рабочей длиной волны 13,5 нм..Производство самой передовой электроники с топологическими нормами меньше 5 нм сегодня возможно только на оборудовании голландской компании «ASML». «ASML» — единственная в мире компания, владеющая системами и технологиями, […]
Читать дальше...