Новая статья: Будущее чимпейкерства: FEL, SSMB, наноимпринт — или всё-таки LPP EUV?
Фотолитография на основе экстремальных ультрафиолетовых лазерно-плазменных источников чувствует себя уверенно: «3-нм» чипы выпускают массово, скоро наступит черёд и «2-нм». Но разумно ли и дальше инвестировать в развитие EUV-систем — или всё-таки имеет смысл обратиться к иным способам получения СБИС? Благо способы эти давно известны — и разработчики их тоже не сидят сложа руки